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Réf. IB709210942
Né en 1975
95110 Sannois
1975-01-01 https://www.ingenieurbatiment.com/cv-candidat/709210942/ingenieur-generaliste Male Sannois Ile de France France 95110 Sannois
Né en 1975
95110 Sannois
1975-01-01 https://www.ingenieurbatiment.com/cv-candidat/709210942/ingenieur-generaliste Male Sannois Ile de France France 95110 Sannois
Langues
Français bilingue
Anglais (cours intensifs).
Anglais (cours intensifs).
Permis
B
Centres d'intérêts
VTT, natation
Ma recherche
Je recherche tout type de contrat, sur toute la région Ile de France, dans le Bâtiment.
Formations
1999 : diplôme d'etudes supérieures en physique, option rayonnement + 2004 : master 2 professionnel (bac + 5) spécialité : technologies et applications des plasmas
Expériences professionnelles
0
2005/2007
Agent de Sécurité pour Uniprotect Sécurité (gestion des alarmes, accueil du public, télésurveillance), Ile de France.
2005/2007
Agent de Sécurité pour Uniprotect Sécurité (gestion des alarmes, accueil du public, télésurveillance), Ile de France.
0
2004
Ingénieur Process et Mise au point (stage/6mois) chez Alliance Concept (Cran-Gevrier74) : SARL spécialisée dans la fabrication d'équipements et de machines industrielles pour les applications plasma (dépôts de couches minces par CVD, PVD, évaporation et gravure sèche), techniques du vide et de contrôle d'étanchéité (Personnel : 50 ; CA : 6 millions d'Euros).
Intitulé du rapport : Dépôts par pulvérisation magnétron et par évaporation sous vide.
(Câblage, montage et optimisation des procédés : prototype EVA300)
Caractérisation sur le site www.alliance-concept.com
Essais expérimentaux :
ØDépôts de chrome et d'aluminium sur des substrats en verre
ØOptimisation d'uniformité d'épaisseur et amélioration de la vitesse du dépôt
ØCaractérisation plasma et différents paramètres du système
ØAmélioration de mouillabilité pour le collage d'échantillons en Hypalon et Néoprène
ØApplication du Lift Off pour dépôt d'Al silicium (Epaisseur 0.3µm pour une résine de 2.5µm)
ØGravure sèche sur substrats en silicium
2004
Ingénieur Process et Mise au point (stage/6mois) chez Alliance Concept (Cran-Gevrier74) : SARL spécialisée dans la fabrication d'équipements et de machines industrielles pour les applications plasma (dépôts de couches minces par CVD, PVD, évaporation et gravure sèche), techniques du vide et de contrôle d'étanchéité (Personnel : 50 ; CA : 6 millions d'Euros).
Intitulé du rapport : Dépôts par pulvérisation magnétron et par évaporation sous vide.
(Câblage, montage et optimisation des procédés : prototype EVA300)
Caractérisation sur le site www.alliance-concept.com
Essais expérimentaux :
ØDépôts de chrome et d'aluminium sur des substrats en verre
ØOptimisation d'uniformité d'épaisseur et amélioration de la vitesse du dépôt
ØCaractérisation plasma et différents paramètres du système
ØAmélioration de mouillabilité pour le collage d'échantillons en Hypalon et Néoprène
ØApplication du Lift Off pour dépôt d'Al silicium (Epaisseur 0.3µm pour une résine de 2.5µm)
ØGravure sèche sur substrats en silicium
0
2001/2003
Gérant à WEB GATE : Service de traitement de données et navigation Internet, Batna, Algérie.
2001/2003
Gérant à WEB GATE : Service de traitement de données et navigation Internet, Batna, Algérie.
Langues
Français bilingue
Anglais (cours intensifs).
Anglais (cours intensifs).
Permis
B
Centres d'intérêts
VTT, natation
Atouts et compétences
·Elaboration, gestion de projet, coordination et management
·Procédés plasmas : nettoyage des surfaces, dépôt (Al, SiO2 par PVD et CVD), gravure (SF6), implantation ionique par immersion plasma
·Optimisation d'un procédé IPVD pour le dépôt de couches minces
·Traitements de surface: Polymères (amélioration de mouillabilité).Lithographie
·Diagnostics plasmas :
Øélectrique (sonde de Langmuir, polarisation RF d'un substrat)
Øoptique (actinométrie)
·Tests de fuite à l'hélium et amélioration des systèmes de pompage
·Techniques expérimentales : Dosimètres et Détecteurs à Gaz
·Informatique : calcul scientifique (Matlab), Fortran, Pascal, Script UNIX
·Traitement du signal et acquisition de données/Propriété Industrielle
·Procédés plasmas : nettoyage des surfaces, dépôt (Al, SiO2 par PVD et CVD), gravure (SF6), implantation ionique par immersion plasma
·Optimisation d'un procédé IPVD pour le dépôt de couches minces
·Traitements de surface: Polymères (amélioration de mouillabilité).Lithographie
·Diagnostics plasmas :
Øélectrique (sonde de Langmuir, polarisation RF d'un substrat)
Øoptique (actinométrie)
·Tests de fuite à l'hélium et amélioration des systèmes de pompage
·Techniques expérimentales : Dosimètres et Détecteurs à Gaz
·Informatique : calcul scientifique (Matlab), Fortran, Pascal, Script UNIX
·Traitement du signal et acquisition de données/Propriété Industrielle
